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CVD二硫化钨薄膜:WS2

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提示信息:偏远地区如新疆西藏宁夏甘肃等地可能无法运送液体,下单前请联系客服。
性 状: 制造方法:
化学气相沉积法, Chemical Vapor Deposition (CVD)

产品简介:
WS2薄膜分为多种:
1) 单层离散分布的三角状单晶晶粒,三角边长一般是几十至一百微米。
2) 由三角晶粒继续长大连在一起的单层连续薄膜。
3) 多层WS2 连续薄膜。
4) 基底:WS2可选基底较多,其中蓝宝石基底为直接沉积产品。其他基底例如:SiO2/Si, 硅片,PET,PI,ITO,FTO,玻璃,金属基底等是通过在蓝宝石上生长后转移至客户所需基底。

应用领域:
光电器件,微电子器件,生物传感,化学传感等领域。

包装及规格
10*10mm,15*15mm,20*20mm,2英寸圆片,4英寸圆片 或客户指定的定制尺寸。
净化抽真空包装, 1片/盒,5片/盒。10片/盒。

典型客户包括:
MIT、加州理工、斯坦福大学;
牛津大学、曼彻斯特大学;
首尔大学、韩国科学技术院(KAIST)、成均馆大学;
东京工业大学、村田制作所
清华大学、北京大学、中科院半导体所
等世界一流研究机构。

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