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CVD二氧化硅基底单层二硫化钨

英文名：Single Layer WS2 on SiO2
Cas号：
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1308128099-1盒 0 ￥11880
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别 名
Cas号
M D L
分子式
分子量
产品参数 形态：薄膜

参数

基底：二氧化硅

基底尺寸：9 mmx9 mm

WS2片径大小：20-50 µm

厚度：0.6～0.8 nm



应用

该类材料缺陷少，光学性质优良，层数可控，是研究层数和荧光效应和制备器件的优异材料。
性状
贮存
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